信息
基本信息

磁控溅射仪(喷金)

1

K550X

英国Emitech

2010年

分类信息

G2944

微结构表征平台

材料制备

管理信息

材料应用技术发展部

朱晓光

65591637

xgzhu@issp.ac.cn

三号楼102

主要技术指标

真空范围:ATM-1x10-2mbar溅射电流:0-50mA沉积速率:0-25nm/分溅射定时:0-4分钟预设置针阀:控制氩

主要附件及配置

靶:60mm直径x0.1mm厚(金作为标准靶面)样品台:直径为50mm,靶面距离40mm,具有倾斜装置的旋转台

主要功能用途

电镜制样喷金

测试样品要求

薄膜,块体

对外收费标准

50元/分钟

其他说明