信息
基本信息

离子溅射镀膜仪

Ionsputtering

JS-1600

中国/北京

2010年

分类信息

G3175

电子材料研究平台

材料制备

管理信息

功能材料物理与器件研究部

魏仁怀

65591433

rhwei@issp.ac.cn

新楼320

主要技术指标

靶(上部电极):材料:金,直径:50mm,厚度:0.1mm 纯度:99.999%真空室:直径:160mm,高:120mm样品台(下部电极):溅射面积:直径:50mm工作真空:8×10-2—2×10-1mbar

主要附件及配置

主要功能用途

薄膜制备

测试样品要求

对外收费标准

协商定价

其他说明